自动热处理炉（APF）和陶瓷热处理炉（CPF）

• 型   号：APF 0925-MM APF 2036
• 更新时间：2017-04-26
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自动热处理炉（APF）和陶瓷热处理炉（CPF）
可实现全自动、无人值守操作，Z高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率>100℃/min，降温速率可达300℃/min。氢气炉/高真空炉可选。可在炉顶与炉底装备加热器，整个热区的温度均匀性极高。

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自动热处理炉（APF）和陶瓷热处理炉（CPF）

自动热处理炉(APF Automatic Processing Furnace systems)与陶瓷热处理炉(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可实现全自动、无人值守操作，zui高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率>100℃/min，降温速率可达300℃/min。氢气炉/高真空炉可选。可在炉顶与炉底装备加热器，整个热区的温度均匀性极高。

自动热处理炉（APF）和陶瓷热处理炉（CPF）

  美国Thermal Technology的APF与CPF系列炉具适于对高纯度的先进陶瓷材料进行热处理，避免了其对传统石墨炉污染的敏感性。APF与CPF的高真空和高温使其也适于难熔金属的加工。不含真空泵的APF与CPF可以通入惰性或还原性气氛。

系统组成：真空腔，金属热区，电源，真空泵，可编程控制系统；可定制升级。

系统的热区可在多种环境内工作：湿/干氢气、离解干氨、惰性气体、氮气、真空等。加热体根据不同的工作温度使用钼片、钼网、钨网等，表面积大，可提高工作区的温度均匀性。

多种产量、温度、处理能力可选，满足您的多种需求。

APF与CPF系列产品特点

立式真空炉

  THERMAL TECHNOLOGY全自动立式真空炉采用圆柱形加热体，在低功率下可以控制形成均一的温度，因此能延长加热体的寿命。多重辐射罩在节省能量的同时也可以保护工作环境、加快热循环速度。热区设计有助于延长在zui高工作温度下的寿命。

  立式的APF/CPF炉具采用冷壁设计，具有辐射防护。顶部/底部装卸与钟罩升降等批量处理炉可选。炉体的双层炉壁与不锈钢炉腔由液压驱动升离底盘与炉床，便于装卸工件与设备。采用的微处理器控制系统，可实现数字化温度控制与处理序列，每次可以存入超过50条处理程序。程序输入方便，并可以在操作过程中进行实时修改。

  装完工件，设置程序处理序列后，所有操作完全自动，操作完成后系统会发出信号提示。

卧式真空炉

  卧式真空炉采用网状加热体，低功率下可以控制形成均一的温度，因此能延长加热体的寿命。多重辐射罩在节省能量的同时也可以保护工作环境、加快热循环速度。热区设计有助于延长在zui高工作温度下的寿命。卧式真空炉zui多可配备6个独立热区，可实现极好的温度均匀性。

  卧式的APF/CPF炉具采用冷壁设计，具有辐射防护，均为前部装卸的批量处理炉。炉体的双层炉壁与不锈钢炉腔前部留有装料口。采用的微处理器控制系统，可实现数字化温度控制与处理序列，每次可以存入超过50条处理程序。程序输入方便，并可以在操作过程中进行实时修改。

  装完工件，设置程序处理序列后，所有操作完全自动，操作完成后系统会发出信号提示。