Zeta电位及纳米粒度分析仪

Zeta电位及纳米粒度分析仪

Zeta电位及纳米粒度分析仪

纳米粒度测量——动态光背散射技术
随着颗粒粒径的减小，例如分子级别的大小，颗粒对光的散射效率急剧降低，使得经典动态光散射技术的自相关检测（PCS）变得更加不确定。40多年来，Microtrac公司一直致力于激光散射技术在颗粒粒度测量中的应用。作为行业的先锋，早在1990年，超细颗粒分析仪器UPA（UltrafineParticle Analyzer）研发成功，*引入由于颗粒在悬浮体系中的布朗运动而产生频率变化的能谱概念，快速准确地得到被测体系的纳米粒度分布。2001年，利用背散射（Back-scattered）和异相多谱勒频移（HeterodyneDoppler Frequency Shifts）技术，结合动态光散射理论和先进的数学处理模型，NPA150/250将分析范围延伸至0.8nm-6.5μm,样品浓度更可高达百分之四十，基本实现样品的原位检测。异相多普勒频移技术采用可控参考稳定频率，直接比照因颗粒的布朗运动而产生的频率漂移，综合考虑被测体系的实时温度和粘度，较之于传统的自相关技术，信号强度高出几个数量级。另外，新型“Y”型梯度光纤探针的使用，实现了对样品的直接测量，极大的减少了背景噪音，提高了仪器的分辨率。

Zeta电位测量：
美国麦奇克有限公司（Microtrac Inc.）以其在激光衍射/散射技术和颗粒表征方面的独到见解，经过多年的市场调研和潜心研究，开发出一代Nanotrac wave微电场分析技术，融纳米颗粒粒度分布与Zeta电位测量于一体，无需传统的比色皿，一次进样即可得到准确的粒度分布和Zeta电位分析数据。与传统的Zeta电位分析技术相比，Nanotrac wave采用先进的“Y”型光纤探针光路设计，配置膜电极产生微电场，操作简单，测量迅速，无需精确定位由于电泳和电滲等效应导致的静止层，无需外加大功率电场，无需更换分别用于测量粒度和Zeta电位的样品池，*消除由于空间位阻（不同光学元器件间的传输损失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差异，分散介质的影响，颗粒间多重散射等）带来的光学信号的损失，结果准确可靠，重现性好。
 

技术参数：

粒度分析范围: 0.3nm-10µm

重现性：误差≤1%

浓度范围：ppb-40%

检测角度：180°

分析时间：30-120秒

准确性：全量程米氏理论及非球形颗粒校正因子

测量精度: 无需预选，依据实际测量结果，自动生成单峰/多峰分布结果

理论设计温度：0-90℃，可以进行程序升温或降温

兼容性：兼容任何有机溶剂及大多数酸性或碱性溶液

测量原理：

粒度测量：动态光背散射技术和全量程米氏理论处理
分子量测量：水力直径或德拜曲线
技术：膜电极，微电场电势测量，“Y”型光纤探针设计，异相多普勒频移，可控参比方法，快速傅立叶转换算法，非球形颗粒校正因子

光学系统：

3mW780nm半导体固定位置激光器，通过梯度步进光纤直接照射样品，在固定位置用硅光二极管接受背散射光信号，无需校正光路

软件系统：

先进的Microtrac FLEX软件提供强大的数据处理能力，包括图形，数据输出/输入，个性化输出报告，及各种文字处理功能，如PDF格式输出, Internet共享数据，Microsoft Access格式（OLE）等。体积，数量，面积及光强分布，包括积分/微分百分比和其他分析统计数据。数据的完整性符合21 CFR PART 11安全要求，包括口令保护，电子签名和授权等。

外部环境：

电源要求：90-240VAC，5A，50/60Hz
环境要求：温度，10-40°C
相对湿度：小于95%

配置：

有内置和外置光纤测量探头可选

主要特点：
﹡采用的动态光散射技术，引入能普概念代替传统光子相关光谱法
﹡的“Y”型光纤光路系统，通过蓝宝石测量窗口，直接测量悬浮体系中的颗粒粒度分布，在加载电流的情况下，与膜电极对应产生微电场，测量同一体系的Zeta电位， 避免样品交叉污染与浓度变化。
﹡的异相多谱勒频移技术，较之传统的方法，获得光信号强度高出几个数量级，提高分析结果的可靠性。
﹡的可控参比方法（CRM），能精细分析多谱勒频移产生的能谱，确保分析的灵敏度。
﹡超短的颗粒在悬浮液中的散射光程设计，减少了多重散射现象的干扰，保证高浓度溶液中纳米颗粒测试的准确性。
﹡的快速傅利叶变换算法（FFT，Fast FourierTransform Algorithm Method）,迅速处理检测系统获得的能谱，缩短分析时间。
﹡膜电极设计，避免产生热效应，能准确测量颗粒电泳速度。
﹡无需比色皿，毛细管电泳池或外加电极池，仅需点击Zeta电位操作键，一分钟内即可得到分析结果
﹡消除多种空间位阻对散射光信号的干扰，诸如光路中不同光学元器件间传输的损失，样品池位置不同带来的误差，比色皿器壁的折射与污染，分散介质的影响，多重散射的衰减等，提高灵敏度。